韩国拟将芯片技术间谍罪最低刑期提高至十年并首次点名外国企业，半导体与人工智能技术竞争加速法律武器化风险研判
FF 2026-09-11 12:42 辽宁
韩国正在把技术安全问题推入刑事司法体系，但外界流传的“9月起泄露核心技术最低判十年”并不准确。
2026年9月13日施行的是韩国刑法第98条之二，适用范围由传统“敌国”扩展至“外国或相当于外国的团体”，法定刑下限为三年。
将外国企业、国家核心技术直接纳入并提高至十年下限，仍属于待审议提案。
真正改变的不是一个刑期数字，而是技术竞争的司法入口
新条款要求行为人在外国主体的指令、唆使或其他意思联络下，为其利益探知、收集、传递或协助处理国家机密。
正常跳槽、公开研究和一般商业合作并不会自动触法，但招聘邮件、猎头佣金、访问权限、云端传输和异常报酬，都可能成为证明外国联系的证据。
韩国既有《工业技术保护法》已经覆盖国家核心技术的境外输出、外资并购和合资交易。
2025年生效的修订进一步强化主管部门对未申报交易的停止、恢复原状和主动审查权，半导体、显示、电池、信息通信、航天与机器人等行业均处于保护范围。
人员流动仍是案件入口，企业背景不能替代证据
韩国警方2025年查获179起技术泄露案件，其中33起涉及境外转移，18起与我有关，占境外案件的54.5%。
这一比例会提高相关企业的审查优先级，却不能替代对技术属性、主观故意和具体指令的证明。
风险最集中的环节，不是普通招聘，而是定向接触掌握核心工艺的人员，并以交付参数、源代码、良率数据或前雇主资料作为聘用条件。
合同主体设在第三国，也难以切断对最终受益人、资金控制、服务器位置和研发验收链条的穿透审查。
芯片案件正在形成跨境法律压力，韩国追责可能延伸至美国市场
韩国检方已就三星相关DRAM工艺外流案起诉十人，并指控涉案人员以手写方式记录数百道制造步骤，再根据境外设备条件进行调整验证。
相关事实仍须由法院审理确认，但案件已把基础DRAM工艺、HBM能力与人工智能算力竞争连接起来。
更深层的变化来自韩美日执法协同。美国司法部和商务部已与韩国、日本建立“颠覆性技术保护网络”，扩大执法信息共享。
美国国际贸易委员会第337条程序则可围绕商业秘密争议采取进口排除措施。
韩国负责追查人员和技术源头，美国控制产品进入市场，出口管制、刑事调查与贸易救济由此可能围绕同一证据链并行运转。
法律边界仍然存在，但企业必须能够证明技术从何而来
企业真正需要建立的，不是笼统的国别回避政策，而是能够复演的独立研发档案：样品来源、公开文献、专利分析、失败实验、代码版本、人员隔离和访问日志均应完整留存。
技术竞争进入司法化阶段后，决定案件性质的往往不是口头解释，而是争议发生前已经形成的同期记录。
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【深度研判】韩国拟将芯片技术间谍罪最低刑期提高至十年并首次点名外国企业，半导体与人工智能技术竞争加速法律武器化风险研判（资料编码2609081007，47页，18022字）
